| 加工定制：是 | 品牌：沈阳科晶 | 电镀位置：样品台 |
| 镀种：真空镀膜 | 镀膜原理：溅射镀膜 | 型号：VTC-600-2HD |
| 电镀电源：直流电源 |
VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。
产品型号 | VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪 | ||
主要特点 | 1、配置两个靶枪，一个为配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个为配套直流电源用于导电类材料 的溅射镀膜。 2、可制备多种薄膜，应用广泛。 3、体积小，操作简便。 | ||
技术参数 | 1、电源电压：220V 50Hz 2、总功率：2KW 3、极限真空度：< ?E-6mbar（配合本公司设备使用可达到?E-5mbar） 4、工作温度：室温-500℃，精度±1℃（可根据实际需要提升温度） 5、靶枪数量：2个（可选配其他数量） 6、靶枪冷却方式：水冷 7、靶材尺寸：Φ2″，厚度0.1-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同） 8、直流溅射功率：500W（可选） 9、射频溅射功率：300W/500W（可选） 10、载样台：Φ140mm 11、载样台转速：1-20rpm内可调 12、保护气体：Ar、N2等惰性气体 13、进气气路：质量流量计控制2路进气，每个流量为100SCCM | ||
产品规格 | 主机尺寸：500mm×560mm×660mm，整机尺寸：1300mm×660mm×1200mm；重量：160kg | ||
标准配件 | 1 | 直流电源控制系统 | 1套 |
2 | 射频电源控制系统 | 1套 | |
3 | 膜厚监测仪系统 | 1套 | |
4 | 分子泵（德国进口） | 1台 | |
5 | 冷水机 | 1台 | |
6 | 冷却水管（Φ6mm） | 4根 | |
7 | 靶材（不锈钢靶、陶瓷靶） | 各1件 | |
可选配件 | 金、铟、银、白金等各种靶材 | ||
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